国林科技：公司目前研制的高浓度臭氧气体发生器设备可用于薄膜沉积工艺的氧化成膜|资讯
2023-05-26 09:54:28 同花顺iNews
(资料图)
同花顺（300033）金融研究中心5月26日讯，有投资者向国林科技（300786）提问， 可否介绍一下产品薄膜沉积设备应用？
公司回答表示，尊敬的投资者，您好。公司目前研制的高浓度臭氧气体发生器设备可用于薄膜沉积工艺的氧化成膜，传统的薄膜沉积制成方法有三种：PVD、CVD、ALD，PVD属于物理方法，CVD、ALD主要利用臭氧通过化学反应在硅片表面形成薄膜保护。感谢您的关注。
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